Reforma integral y de aspectos energéticos en planta cuarta del edificio C del Campus Diagonal Besòs de la UPC.
El actual proyecto se debe a las necesidades de encontrar un espacio de trabajo, investigación e investigación del grupo fotovoltaico en el Campus Diagonal Besós. Por este motivo y con el ánimo de realizar una reforma de la planta cuarta del edificio C tanto a nivel de compartimentación como de las instalaciones, se realiza el proyecto ejecutivo para adaptar esta planta del edificio según las necesidades demandadas por el grupo fotovoltaico.
Es la reforma integra de la planta cuarta, incluyendo reestructuración de espacios a nivel de compartimentación, adaptación de las instalaciones existentes y nuevas instalaciones a las necesidades actuales, junto con la disposición de los equipos de trabajo necesarios, e incluye los siguientes aspectos: -Nueva compartimentación de zona de despachos y laboratorios -Obras de modificación de instalaciones existentes y nuevas instalaciones necesarias -Instalación de equipos nuevos para los laboratorios -Legalizaciones y finales de obra
El objeto del contrato es la adecuación de espacios para el traslado de varios laboratorios a las plantas baja y primera del edificio C del Campus Diagonal Besòs de la Universitat Politècnica de Catalunya,
La instalación de baja tensión se basará en la adecuación de la planta cuarta para que el equipo fotovoltaico pueda realizar los trabajos de investigación con todas las garantías a nivel de instalación y seguridad.
La instalación de potencia de la planta cuarta quedará alimentada por un cuadro general eléctrico existente situado al montante eléctrico. Este mismo cuadro está alimentado por una línea de uso normal y otro línea de os complementario que provienen del cuadro general de edificio. La parte de uso normal queda protegida por un interruptor seccionador de 160A, mientras que la de uso complementario queda protegida por un interruptor seccionador de 100A, ambos de 4 polos.
El criterio utilizado por la distribución de subcuadros de la planta, se que los espacios de despachos y zona de trabajo, junto con office y zonas comunes, son alimentados desde el propio cuadro general de planta debido a que no tienen grandes equipos con altos consumos.
El resto de laboratorios de la planta junto con el taller disponen de un subcuadro en la entrada de cada aposento, que protege y distribuye la potencia a cada dispositivo de esta.
La distribución desde el cuadro de planta hasta cada uno de los subcuadros de laboratorios y talleres se realizará por bandeja metálica y aérea, pasando por las zonas comunes de la planta finos llega a cada subcuadro.
La distribución desde cada subcuadro hasta los receptores se realizará por bandeja plástica de color gris con separador y tapa, distribuyéndose en su recorrido por las paredes de los aposentos.
En los puntos donde no exista la posibilidad de distribución por las paredes, se utilizará una distribución a través de bandeja metálica por techo hasta llegar en su punto de conexión. Desde este punto, se utilizará mobiliario especial para realizar la bajada y poder instalar las presas de corriente correspondientes.
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